"CVD"
용어
뉴스
에너지기술연구원, CVD로 맞춤형 촉매 제조 — 에틸렌 수율 29배 향상
한국에너지기술연구원 김희연 책임연구원 연구팀이 미국 브룩헤이븐국립연구소, 서울대, 일본 국립재료과학연구소와 함께 반도체 공정인 화학기상증착(CVD)을 촉매 제조에 접목해 원자 단위로 구조를 제어하는 기술을 개발했다. 연구팀은 망간(Mn) 입자 표면에만 텅스텐(W) 원자를 선택적으로 증착해 메탄을 에틸렌으로 전환하는 촉매를 만들었다. 실험 결과 촉매 활용률은 기존 액상법 대비 약 28%에서 82%로, 메탄 전환율은 6.9%에서 51.7%로 높아졌고 에틸렌 수율은 0.9%에서 26.0%로 상승했다. 800도에서 180시간 운전해도 원자가 뭉치지 않아 안정적인 성능을 유지했으며, 연구팀은 기술성숙도를 시제품 단계인 4단계로 평가했다. 연구 결과는 국제학술지 케미컬 엔지니어링 저널에 게재됐다.
케이엔제이, CVD SiC 포커스링 증설 — 낸드서 D램까지 공급 확대
케이엔제이가 충청남도가 주최한 '제33회 충청남도 기업인대상'에서 우수기업인상을 수상했다. 이 회사는 반도체 식각 공정용 소모성 부품인 CVD SiC 포커스링을 주력으로 생산하며, 소재 생산부터 정밀가공, 품질검사까지 자체 수행 역량을 갖추고 있다. 글로벌 메모리 업체들의 선단공정 전환과 생산능력 확대에 따라 식각 공정용 소모성 부품 수요가 늘면서, 올해 9월 말 기준 연간 매출 환산 약 1400억원 수준의 SiC 생산능력을 확보했다. 회사는 기존 낸드 중심 공급 경험을 D램으로 확대하고, 해외 신규 고객 확보와 직경 500mm 이상 대구경 단결정 Si 부품사업 육성을 통해 사업 기반을 넓힐 계획이다.
AMEC, SK키파운드리와 매그나칩에 전력반도체용 MOCVD 테스트
중국 장비기업 AMEC(중웨이반도체)가 SK키파운드리, 매그나칩과 전력반도체용 핵심 제조장비 테스트에 돌입한 것으로 16일 파악됐다. 테스트 대상은 유기금속화학증착(MOCVD) 장비로, 탄화규소(SiC)·질화갈륨(GaN) 등 차세대 전력반도체의 박막 형성 공정에 주로 쓰인다. AMEC은 중국 MOCVD 시장에서 점유율이 높지만 한국 시장 입지는 미미했고, 삼성전자·SK하이닉스의 국내 팹에는 장비를 공급하지 못하고 있다. 다만 SK하이닉스가 인텔 낸드 사업부 인수로 양수한 중국 다롄 공장에는 AMEC 제품이 납품되고 있으며, SK키파운드리는 올 상반기 신규 고객사로부터 1200V SiC 모스펫 개발을 수주한 바 있다.
ASM 플로어블카본, PECVD 공정에서 CMP 단계 축소 시도
ASM이 9월 29일 PECVD 공정의 신기술 '플로어블 카본(Flowable Carbon)'을 공개했다. 플로어블 카본은 액체처럼 유동성을 갖는 탄소막으로, 고주파(RF) 플라즈마로 전구체 가스를 분해해 생성된 라디칼과 이온이 웨이퍼에 흡착돼 곧바로 딱딱한 막을 형성하는 기존 PECVD 박막과 달리, 웨이퍼에 접촉해도 즉시 경화되지 않는 특성을 갖는다. 이러한 유동성으로 인해 고종횡비(HAR) 홈 구조에도 적용이 검토되고 있다.
아이에스티이 시리우스2, SiCN 박막 트윈타입 6챔버로 생산성 50% 향상
아이에스티이가 2세대 탄질화규소(SiCN) 플라즈마 강화 화학기상증착(PECVD) 장비 '시리우스2'의 개발을 지난 6월 완료했다. 트윈 타입으로 6개의 공정 모듈(PM) 챔버를 적용해 웨이퍼 한 쌍을 동시에 이송·처리할 수 있으며, 4개의 PM 챔버를 탑재한 싱글 타입이던 1세대 대비 생산성을 높였다. 플라즈마를 이용해 저온에서도 SiCN 박막을 균일하게 형성하는 방식이다. 업계에 따르면 이번 장비 개발로 외산 장비와의 경쟁이 본격화될 전망이다.