ChipBase한국어 반도체 데이터베이스
가격 19품목이력 46일째국내 기업 90곳
메모리 가격 이력

가격은 어제와
얼마나 달라졌나

원문은 오늘 값만 보여주고 지난 차트는 회원에게만 엽니다. 그래서 8월 30일부터 매일 스냅샷을 남겨 오늘로 46일째 쌓고 있습니다.

가격표 보기변동 이력

DRAM 현물 평균가 · 10월 14일

  1. 1DDR3 4Gb 512Mx8 1600/1866$13.685
  2. 2DDR4 16Gb (2Gx8) 3200$83.858
  3. 3DDR4 16Gb (2Gx8) eTT$14.125
국내 소부장

국내 기업 90곳을
밸류체인 위에 놓다

기사에서는 이름만 스쳐 지나갑니다. 어느 공정의 무엇을 만드는 회사인지, 한 표에서 찾게 했습니다.

국내 소부장 보기전체 디렉토리

국내 기업이 많은 분류

  1. 1장비23곳
  2. 2소재14곳
  3. 3테스트·계측14곳
  4. 4팹리스11곳
공정 노드

‘2nm’는
2나노미터가 아니다

노드 이름의 숫자는 세대를 가리키는 상표에 가깝습니다. 구조와 시점을 함께 놓아야 비교가 됩니다.

공정 로드맵공정 노드란

추적 중인 파운드리

  1. 1TSMC8개 노드
  2. 2삼성 파운드리7개 노드
  3. 3Intel Foundry6개 노드
  4. 4라피더스1개 노드
오늘의 읽을거리 · 패키징·후공정

KBG, 저휘발 실리콘 소재로 반도체 패키징 시장 진입

저휘발 실리콘 소재는 반도체 패키징의 코팅·몰딩·방열 공정에 쓰이는데, 150ppm이라는 수치는 제3자 검증이 아닌 KBG가 자체 제시한 공정 성능이라는 점에 유의할 필요가 있다.

이어서 읽기뉴스 전체
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오늘의 메모리 가격

원문 표를 그대로 옮긴 값입니다. 카드의 작은 그래프는 우리가 매일 남긴 평균가이고, 품목마다 세로축을 따로 맞춰 0 에서 시작하지 않습니다.

가격표 전체

오늘의 읽을거리

속보 경쟁은 하지 않습니다. 원문을 한국어로 요약하고, 큐레이터 노트로 원문에 없는 맥락을 붙였습니다.

뉴스 전체

반도체는 어떻게 만들어지나

앞 단계가 막히면 뒤가 멈춥니다. 분류를 나열하는 대신 순서대로 놓고, 단계마다 기업을 모았습니다.

기업 디렉토리

오늘의 국내 기업

매일 한 곳씩 소개합니다. 회사 소개가 아니라 밸류체인에서의 위치를 적습니다.

국내 90곳 전체
장비 · 약액 혼합·공급

씨앤지하이테크

CNG Hitech

공정용 화학약품을 혼합해 공급하는 설비를 만든다.

화학약품 혼합·공급 장치

파운드리 공정 로드맵

왼쪽이 오래된 세대, 오른쪽이 최신 세대입니다. 검정은 양산, 점선은 개발·발표, 취소선은 취소·축소.

전체 노드 비교

오늘의 용어

정의에 수치를 넣지 않습니다. 수치는 낡고, 낡은 수치는 정의를 통째로 틀리게 만듭니다.

용어 69개 전체
산업 · 입문

OSAT

Outsourced Semiconductor Assembly and Test

패키징과 테스트를 외주로 받는 회사. 첨단 패키징 수요가 커지며 전공정 못지않은 주목을 받는다.

ALD중급해설

Atomic Layer Deposition

원자층 단위로 막을 한 겹씩 쌓는 증착. 두께를 정밀하게 통제할 수 있어 GAA 구조에서 비중이 커졌다.

CMP중급해설

Chemical Mechanical Polishing

화학과 연마를 함께 써서 표면을 평탄하게 만드는 단계. 층을 쌓아 올리려면 매번 바닥이 평평해야 한다.

DUV중급해설

Deep Ultraviolet Lithography

EUV 이전 세대의 노광. 이머전(물에 담가 해상도를 높인) 방식과 멀티패터닝을 조합해 아직도 대부분의 층을 찍는다.

EUV중급해설

Extreme Ultraviolet Lithography

극자외선을 쓰는 노광 방식. 파장이 짧아 미세 패턴을 한 번에 그릴 수 있지만 장비를 만드는 곳이 사실상 한 곳뿐이라 공급이 곧 지정학이 된다.

High-NA EUV고급해설

High-NA EUV

렌즈의 개구수를 키운 차세대 EUV. 해상도를 더 올리는 대신 한 번에 찍는 면적이 줄어 설계·수율 양쪽에 새 제약을 만든다.

결함밀도고급해설

Defect Density

단위 면적당 치명 결함의 수. 다이 크기와 함께 수율을 결정하는 값이라 새 노드의 성숙도를 가늠하는 지표로 쓰인다.

공정 노드입문해설

Process Node

공정 세대를 부르는 이름. 지금의 "2nm" 같은 표기는 물리 치수가 아니라 마케팅 명칭이라 회사 간 직접 비교가 되지 않는다.

노광입문해설

Photolithography

빛으로 회로 패턴을 웨이퍼에 새기는 단계. 이 단계의 해상도가 곧 공정 미세화의 한계를 정한다.

다이입문해설

Die

웨이퍼 위에서 잘라낸 칩 하나. 다이가 클수록 웨이퍼 한 장에서 나오는 개수가 줄고 결함에 걸릴 확률이 커진다.

마스크중급해설

Photomask

노광에 쓰는 회로 패턴 원판. 층마다 필요해서 노드가 미세해질수록 마스크 세트 비용이 급격히 오른다.

멀티패터닝고급해설

Multi-patterning

한 층을 여러 번 나눠 찍어 더 촘촘한 패턴을 만드는 기법. 공정 단계가 늘어 원가와 변동이 함께 커진다.

수율입문해설

Yield

만든 것 중 쓸 수 있는 것의 비율. 공정 기술의 성패를 가르는 실질 지표이고, 새 노드의 원가는 사실상 수율이 결정한다.

매일 아침, 가격이 하루치 더 쌓입니다

수치는 원문 파싱값과 사람이 확인한 값만 씁니다. 확인되지 않은 칸은 비워 둡니다.