장비·소재·부품몰리브덴 준위상마스크, 저NA EUV 해상도 끌어올려
국립양밍자오퉁대(NYCU)와 TSMC 연구진이 몰리브덴(Mo) 기반의 준위상전용마스크(quasi-POM)를 이용한 EUV 이미징 개선 논문을 발표했다. 전자기 시뮬레이션 결과, 기존 탄탈럼(Ta) 기반 흡수체 대비 이미지 대비가 최대 35% 향상되고 공통 초점창이 5배 넓어졌으며 최대 텔레센트리시티 오차는 92% 줄었다고 밝혔다. 이를 통해 모노폴 조명을 사용하는 0.33 개구수(NA) EUV 장비에서 12.5nm 하프피치 해상도 구현이 가능하다고 설명했다. 해당 연구는 2026년 8월 Optics Express에 게재됐다.
Semiconductor Engineering영문 원문