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패키징 · 중급

TSV

Through-Silicon Via

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실리콘을 관통해 위아래 다이를 잇는 수직 배선. HBM 적층의 기본 기술이다.

다이를 옆으로 나란히 배치해 와이어본딩으로 연결하면 배선 길이가 길어지고 신호 지연과 전력 손실이 커진다. HBM처럼 여러 개의 D램 다이를 쌓아 대역폭을 늘리려면 다이 내부를 수직으로 뚫어 최단 경로로 연결하는 방식이 필요한데, 이때 쓰는 것이 TSV다. 실리콘 웨이퍼에 미세한 구멍을 뚫고 구리 등 전도성 물질로 채운 뒤, 다이를 얇게 갈아내 위아래 다이의 TSV끼리 범프로 접합해 쌓아 올리는 방식으로 동작한다. HBM 스택의 단면도나 패키징 공정 다이어그램에서 다이를 관통하는 수직 배선으로 표시되며, 로직 다이와 메모리 다이를 인터포저 위에서 연결하는 2.5D 패키지 설명에서도 함께 등장한다. TSV는 웨이퍼를 관통하는 구멍이라는 점에서 다이 표면의 범프나 재배선층(RDL)과는 다른 공정이며, 다이를 얇게 연마해야 하므로 수율과 기계적 강도 관리가 까다로운 공정으로 꼽힌다.

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