GPD 공정검출기, 링오실레이터 넘어 소자 특성별 원인 진단

반도체 업계는 첨단 실리콘을 들여다보기 위해 내장형 모니터 투자를 늘려왔지만, 저자들은 단순히 측정량을 늘리는 대신 처음부터 목적에 맞게 설계된 공정 특성화 IP와 분석 기법이 필요하다고 주장한다. 기존 링 오실레이터는 NMOS·PMOS 거동, 로딩, 전압 반응 등 여러 효과를 하나의 주파수 값으로 압축해 원인 구분이 어렵다. 이에 비해 목적에 맞게 설계된 GPD(Global Variation Process Detector)는 여러 검출기 구조의 동시 반응을 비교해 문턱전압, 구동전류, N/P 스큐 등 소자 수준 특성을 추론할 수 있다고 설명한다. 또한 모니터 데이터를 시뮬레이션 기반 기대치, 테스트 맥락, 설계 정보와 결합하는 '갭투타깃(gap-to-target)' 분석 등을 통해 사전 실리콘 예측과 실제 실리콘 거동의 차이를 파악할 수 있다고 밝혔다.

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