Onto Innovation, 피코초 초음파로 SiCr 박막 거칠기 감지

Onto Innovation 엔지니어들이 바이폴라-CMOS-DMOS(BCD) 소자에 쓰이는 SiCr 박막의 공정 관리를 위해 피코초 초음파 기술을 활용하는 방법을 소개했다. 이 기술은 두께 측정과 동시에 반사율 데이터를 수집해 표면 거칠기, 밀도, 조성 등 두께만으로는 파악하기 어려운 미세구조 변화를 감지할 수 있다고 설명했다. 실험에서는 질소(N₂) 가스 유량 조건에 따라 목표 두께가 비슷한 SiCr 박막이라도 반사율 신호가 다르게 나타나 표면 거칠기와 두께 편차를 함께 반영했다. 저자들은 이러한 반사율 정보가 별도 계측 단계 없이 추가 공정 정보를 제공해 온도저항계수(TCR) 등 전기적 특성에 영향을 미치는 공정 이탈을 조기에 파악하는 데 도움을 준다고 밝혔다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: Semiconductor Engineering 「Beyond Thickness: Using Picosecond Ultrasonic Technology For SiCr Process Control In BCD Devices」
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