누설전류
Leakage Current

꺼져 있어야 할 때도 새어 흐르는 전류. 미세화의 실질적 한계를 만드는 원인이고 구조 변경의 이유가 된다.
트랜지스터는 꺼진 상태에서 전류가 완전히 차단되어야 이상적이지만, 채널과 접합 구조상 미세한 전류가 항상 새어 나온다. 이 전류는 게이트 절연막을 뚫고 지나가는 터널링 경로, 문턱전압 근처에서 채널이 완전히 닫히지 않아 생기는 서브스레숄드 경로, 소스와 드레인 사이 공핍층을 통한 접합 누설 경로 등 여러 갈래로 나뉘어 합산된다. 트랜지스터 하나하나는 미미하지만 칩 안에 수십억 개가 집적되면 대기 상태에서도 상당한 정적 전력 소모로 이어지므로, 배터리로 동작하는 모바일 기기나 대규모 SRAM 캐시를 설계할 때 성능 못지않게 중요한 검토 항목이 된다. 공정 세대가 미세화될수록 채널 길이가 짧아지고 절연막이 얇아지면서 이 여러 누설 경로가 동시에 커지는데, 이것이 평면 구조에서 핀펫이나 게이트올어라운드처럼 게이트가 채널을 여러 면에서 감싸는 구조로 전환된 근본적인 이유다. 게이트 길이를 줄여 속도를 높이면 누설전류도 함께 늘어나는 상충 관계가 있어, 설계 단계에서 성능과 대기전력 사이의 균형을 목표 용도에 맞게 조정해야 한다.
소자 분야의 다른 용어
CFET고급해설
Complementary FETn형과 p형 트랜지스터를 위아래로 겹쳐 쌓는 구조. GAA 다음 세대로 연구되고 있다.
CMOS중급해설
CMOSp형과 n형 트랜지스터를 짝지어 쓰는 회로 방식. 대기 상태에서 전력을 거의 안 써서 디지털 칩의 기본 구조가 됐다.
GAA중급해설
Gate-All-Around게이트가 채널을 네 면 모두 감싸는 구조. 핀펫보다 전류 통제가 좋아 2nm 급 세대의 표준으로 넘어가고 있다.
GaN중급해설
Gallium Nitride고주파·고효율에 강한 화합물 반도체. 충전기와 통신용 전력증폭기 쪽에서 자리를 넓혔다.
SiC중급해설
Silicon Carbide실리콘보다 높은 전압·온도를 견디는 화합물 반도체. 전기차 인버터처럼 전력 손실이 곧 주행거리인 곳에서 쓰인다.
나노시트고급해설
Nanosheet얇은 판 모양 채널을 여러 장 쌓아 만든 GAA 구현. 판의 폭을 조절해 성능과 전력을 설계 단계에서 조율할 수 있다.
전력반도체입문해설
Power Semiconductor전력을 변환·제어하는 반도체. 미세 공정 경쟁과 무관하게 소재와 신뢰성이 경쟁력을 가르는 영역이다.
트랜지스터입문해설
Transistor전류를 켜고 끄는 스위치. 반도체 칩은 결국 이 스위치를 아주 많이, 아주 작게 모아 놓은 것이다.
핀펫중급해설
FinFET채널을 지느러미처럼 세워 게이트가 세 면을 감싸게 만든 구조. 평면 구조의 누설전류 한계를 넘기 위해 도입됐다.
후면전력공급고급해설
Backside Power Delivery전원 배선을 웨이퍼 뒷면으로 옮기는 기법. 앞면을 신호 배선에 더 쓸 수 있어 전압 강하와 혼잡을 함께 줄인다.