imec, TMD 기반 MOS 전하 분석 — 2D 채널 소재 결함 측정법 제시

imec, KU Leuven, ASM 연구진이 전이금속 디칼코게나이드(TMD) 기반 금속-산화물-반도체(MOS) 구조의 전하 성분을 분석한 논문을 발표했다. 연구팀은 다중 주파수·다중 온도 조건의 커패시턴스-전압/컨덕턴스-전압(C-V/G-V) 스캔과 계면 트랩 밀도 프로파일 매핑을 홀 측정과 결합해, 완전 공핍된 소수층 TMD 기반 MOS 소자에서 계면 트랩, 산화막 경계 트랩, 이동 캐리어 등의 가변 전하 성분을 정량화했다. 해당 논문은 학술지 npj 2D Materials and Applications에 2026년 9월 게재됐다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: Semiconductor Engineering 「Characterizing Charge Components In TMD-based MOS Structures (imec, KU Leuven, ASM)」
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