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ASM 플로어블카본, PECVD 공정에서 CMP 단계 축소 시도
ASM이 9월 29일 PECVD 공정의 신기술 '플로어블 카본(Flowable Carbon)'을 공개했다. 플로어블 카본은 액체처럼 유동성을 갖는 탄소막으로, 고주파(RF) 플라즈마로 전구체 가스를 분해해 생성된 라디칼과 이온이 웨이퍼에 흡착돼 곧바로 딱딱한 막을 형성하는 기존 PECVD 박막과 달리, 웨이퍼에 접촉해도 즉시 경화되지 않는 특성을 갖는다. 이러한 유동성으로 인해 고종횡비(HAR) 홈 구조에도 적용이 검토되고 있다.
ASML 수출규제, 네덜란드 총리가 미국과 조율 중
롭 예텐 네덜란드 총리가 뉴욕에서 진행된 블룸버그TV 인터뷰에서 미국이 ASML에 추가 수출 규제를 가하지 않도록 도널드 트럼프 대통령과 대화했다고 밝혔다. 그는 양측이 합의에 이를 수 있다고 언급했다. 예텐 총리는 MATCH(Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act) 법안과 반도체 산업 보호의 중요성에 대해 미국 대통령 및 의원들과 이미 여러 차례 대화했다고 전했다.
ASML, 2026년 상반기 유럽 매출 0% — EUV향 첨단 팹 공백
ASML의 프랭크 헴스케르크 공공정책 수석부사장은 네덜란드 방송 De Balie 프로그램에서 2026년 상반기 유럽 매출 비중이 0%라고 밝혔다. 이는 2025년 1%, 2024년 5%, 2023년 4%, 2022년 2%에서 계속 낮아진 수치다. 그는 유럽에 신규 반도체 팹 투자가 이뤄지지 않고 있어 우려스럽다며, 공급 측 투자 유치뿐 아니라 유럽산 반도체에 대한 수요를 조직적으로 만들어야 한다고 말했다. 그는 이 문제를 두고 유럽연합 집행위원장 우르줄라 폰데어라이엔 등과 논의 중이라고 밝혔다. 기사는 인텔 아일랜드 팹, ESMC·인피니언·글로벌파운드리의 드레스덴 팹 등 유럽 내 여러 팹 프로젝트가 진행 중이지만 모두 EUV를 쓰지 않는 성숙 공정용이라는 점도 함께 전했다.
ASML, 머스크의 FEL 대신 1000W LPP 광원 강화
ASML은 EUV 노광 광원으로 액체 주석 방울에 레이저를 쏴 플라즈마를 만드는 LPP(레이저생성플라즈마) 방식을 쓰고 있으며, 입자가속기 기반의 자유전자레이저(FEL) 방식은 채택할 계획이 없는 것으로 알려졌다. JP모건 노트를 인용한 Semi Doped 보도에 따르면 ASML은 레이저 기술 발전을 근거로 일론 머스크가 지지하는 FEL 방식을 시도할 이유가 없다고 본다. ASML은 LPP 광원 출력을 기존 약 250W에서 약 500W로 높였고, 향후 1000W까지 끌어올리는 한편 초당 생성하는 주석 방울 수도 약 10만 개로 늘릴 계획이다. FEL은 주석 방울과 그로 인한 이물질 문제를 없애고 이론적으로 더 높은 출력을 낼 수 있지만, 대형 입자가속기와 방사선 차폐, 복잡한 빔 분배 시스템이 필요해 반도체 양산 수준의 가동률과 비용 구조를 갖추기까지는 시간이 걸릴 것으로 전망된다.
imec, TMD 기반 MOS 전하 분석 — 2D 채널 소재 결함 측정법 제시
imec, KU Leuven, ASM 연구진이 전이금속 디칼코게나이드(TMD) 기반 금속-산화물-반도체(MOS) 구조의 전하 성분을 분석한 논문을 발표했다. 연구팀은 다중 주파수·다중 온도 조건의 커패시턴스-전압/컨덕턴스-전압(C-V/G-V) 스캔과 계면 트랩 밀도 프로파일 매핑을 홀 측정과 결합해, 완전 공핍된 소수층 TMD 기반 MOS 소자에서 계면 트랩, 산화막 경계 트랩, 이동 캐리어 등의 가변 전하 성분을 정량화했다. 해당 논문은 학술지 npj 2D Materials and Applications에 2026년 9월 게재됐다.
ASML 코리아, 대한민국 일자리 으뜸기업 5년 연속 선정
국내 반도체 생태계ASML 코리아, 일자리 으뜸기업 5년 연속 선정
ASML의 한국 지사인 ASML 코리아가 고용노동부가 주관하는 '2026년 대한민국 일자리 으뜸기업'에 선정됐다. 2020년 첫 선정 이후 2022년부터 2026년까지 5년 연속 선정된 것으로, 이 제도에서 5년 연속 선정된 기업은 ASML 코리아가 유일하다. 이 제도는 고용 확대 및 근로 환경 개선에 기여한 민간 기업 100곳을 매년 선정해 대통령 인증패를 수여한다. ASML 코리아는 양질의 일자리 창출, 근무 환경 개선, 지역사회와의 협력 등을 선정 배경으로 꼽았다.
장비·소재·부품ASML, 하이-NA 마스크 대형화에 3사 협력 — 전환 수년 전망
ASML과 인텔, 삼성전자, TSMC가 하이-NA EUV 노광 장비용 6×12인치 포토마스크 전환을 위해 협력한다고 ASML이 보도자료를 통해 밝혔다. 하이-NA EUV는 0.55 수치개구로 8nm 단일노광 해상도를 구현해 0.33-NA EUV의 13nm보다 우수하지만, 애너모픽 광학계로 인해 기존 6×6인치 마스크로는 절반 면적만 노광할 수 있어 큰 다이는 두 번 노광해 이어붙이는 스티칭이 필요하다. 스티칭은 웨이퍼 처리량을 EXE:5200B 기준 시간당 최대 175장에서 약 125장으로 낮추고 설계 제약과 정렬 오차에 따른 수율 저하 위험을 동반한다. 6×12인치 마스크는 이런 스티칭 없이 기존 26×33mm 전체 노광 영역을 복원할 수 있지만, 마스크 제조·취급 인프라 전반의 개편이 필요해 전환에는 수년이 걸릴 것으로 전망된다.