삼성전자, ASML 마스크 컨소시엄 참여 — High-NA D램 양산 준비

삼성전자가 ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여해 차세대 12인치 포토 마스크를 공동 개발한다. 이와 함께 2028년 업계 최초로 첨단 D램 제조에 고개구수(High-NA) EUV 노광장비를 도입하기 위한 협력도 강화한다. 장비 도입뿐 아니라 마스크 표준과 양산 인프라까지 함께 준비한다는 취지다.
이 글에 나온 것
이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: 전자신문 「삼성전자, ASML과 High-NA 협력 확대…2028년 D램 양산 적용 추진」
전자신문 원문 보기 ↗
