인텔 14A 결함밀도, 22nm 이후 최고 속도 개선

인텔 데이비드 진스너 CFO는 도이체방크 2026 기술 컨퍼런스에서 1.4나노급 인텔 14A 공정의 결함밀도 개선 속도가 자체 목표보다 양호하며 22nm 공정 이후 가장 빠른 수준이라고 밝혔다. 14A는 2세대 리본펫 트랜지스터와 후면전력전달 기술 '파워다이렉트'를 적용하며 2027년 말 리스크 생산을 목표로 오레곤 힐스보로 D1X 팹에서 ASML 트윈스캔 EXE:5000 등을 활용해 연구가 진행 중이다. PDK 0.9는 10월 제공 예정이며, 내부 고객사인 인텔 프로덕트 그룹이 14A 기반 제품을 설계하고 있고 외부 고객사와도 생산역량·공급 관련 논의가 진행 중이라고 설명했다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: ZDNet Korea 「인텔 "1.4나노 '14A' 순항... 결함밀도 개선 속도 빨라"」
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