2나노 이하 공정, 테스트·계측 경계 재정의 필요

반도체 미세화가 2나노 이하로 진행되면서 테스트, 계측, 검사, 제조 공정 간 경계가 모호해지고 있다. Siemens EDA, Synopsys, Onto Innovation, proteanTecs 관계자들은 검사 민감도가 높아지면서 수백만 건의 결함 신호가 검출되지만 실제 수율·신뢰성에 영향을 주는 결함과 공정 변동에 따른 노이즈를 구분하기 어려워졌다고 설명했다. 칩렛과 하이브리드 본딩 확산으로 웨이퍼 프로브 방식도 변화하고 있으며, 대규모 AI 데이터센터는 제조 결함 가능성에 대비해 중복 서버 클러스터와 패키지 단위 리페어 기능을 도입하고 있다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: Semiconductor Engineering 「Redefining Processes At Sub-2nm」
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