반도체 3D 스케일링 확산, 소재 기술에 새 과제

EE Times는 반도체 미세화가 그동안 주로 선폭을 줄이는 방식으로 설명돼 왔다고 전했다. 그러나 로직과 메모리 구조가 평면적 확장뿐 아니라 수직으로도 확장되면서, 공정이 리소그래피 중심에서 벗어나 소재 전반에 새로운 요구를 제기하고 있다고 전했다. 필자는 Stephen Sopko다.
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