비아 삽입 자동화 EDA, 5nm 이하 인터커넥트 신뢰성 강화

반도체 업계는 5nm 이하 공정에서 게이트 지연보다 인터커넥트 성능이 설계 품질을 좌우하는 상황을 맞고 있다. 금속층을 연결하는 비아는 치수가 작아질수록 저항이 급격히 커져 전자이동(EM)과 IR 드롭 문제를 심화시킨다. 기존에는 신호 경로와 파워 그리드에 수동으로 중복 비아를 추가해 대응했지만, 최신 공정의 레이아웃 밀도와 파운드리 설계 규칙 복잡성 때문에 수동 삽입이 현실적으로 불가능해졌다. 이에 따라 구현 단계에서 사인오프 품질 엔진을 활용해 중복 비아 삽입 위치를 자동으로 찾아내는 '시프트 레프트' 방식이 제안되고 있으며, 레이아웃이 불완전한 상태에서도 동작하는 '쇼트 레질리언트' 기능도 포함된다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: Semiconductor Engineering 「Strengthening Advanced-Node Interconnects Through Automated Via Insertion」
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