CXMT 기술유출 전 삼성맨, 2심서 7년→5년 감형

중국 D램 업체 CXMT에 삼성전자 기술을 유출한 혐의로 1심에서 징역 7년을 선고받은 전직 삼성전자 직원이 항소심에서 5년형으로 감형됐다. 서울고등법원은 22일 산업기술 해외유출 사건 항소심에서, 피고인이 CXMT 재직 중 '허페이 프로젝트' 관련 설비투자 정보를 취합했지만 개발업무에 직접 관여하지 않았고 다른 CXMT 기술유출 사건 수사에 협조한 점 등을 감형 사유로 들었다. 피고인은 삼성전자에서 28년 근무한 뒤 2016년 CXMT로 이직해 18나노미터 D램 공정 투자계획인 허페이 프로젝트 발표에 참여했다. 함께 발표한 전직 삼성전자 출신 A씨는 1심에서 징역 6년을 선고받았다. 공소청과 피고인은 7일 안에 대법원에 상고할 수 있다.
이 글에 나온 것
이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: ZDNet Korea 「'CXMT 유출 혐의' 전직 삼성맨 2심 징역 5년 선고」
ZDNet Korea 원문 보기 ↗
