온토이노베이션, 첨단 패키징 잔류전하 제어 기술 공개

AI·HPC·스마트폰·자동차·네트워킹 기기가 첨단 패키징 기술에 의존도를 높이는 가운데, 결함 검출 중심이던 패키징 공정관리 논의에서 미세한 전기적 조건의 영향이 주목받고 있다. 전통적 검사·계측 방식으로는 포착되지 않는 잔류 전하가 수율, 소자 신뢰성, 공정 일관성에 영향을 줄 수 있다는 것이다. 흡습성 필름과 절연층·기판 조합이 늘면서 건조한 환경에서 잔류·정전기 전하 관리가 중요한 공정 과제로 부상했다. 플라즈마 기반 증착, 세정, 표면처리, 본딩 공정은 웨이퍼와 패널 전역에 국지적 전하 축적을 유발할 수 있으며, Onto Innovation은 웨이퍼 전체 매핑과 패널 단위 고해상도 매핑으로 이러한 불균일과 핫스팟을 식별하는 사례를 제시했다.
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이 글은 원문을 요약한 큐레이션입니다. 제목은 요약에 맞춰 새로 붙였습니다. 수치와 단위는 원문 표기를 유지했습니다. 전체 내용은 원 매체에서 읽어 주세요.원문: Semiconductor Engineering 「The FAaST Track: Enabling Advanced Packaging Through Electrical Process Control」
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